電子束閘

英國(guó)Deben出品的PCD型束閘是設(shè)計(jì)用來為JEOL和Hitachi的FEG場(chǎng)發(fā)射、LaB6六硼化鑭和鎢燈絲掃描電鏡提供電子束的消隱（阻斷、開關(guān)）、脈沖或其他調(diào)制能力。該束閘安裝在電鏡鏡筒側(cè)面的PCD端口（與最終孔徑光闌相對(duì)）上，可在高達(dá)30千伏的電鏡加速電壓下工作，開關(guān)時(shí)間約為50納秒。還具有一個(gè)集成的法拉第杯和探針電流探測(cè)器（PCD），用于指示探針電流。如果需要更精確的束流讀數(shù)，則可用所提供的......

英國(guó)DEBEN電子束束閘

許多掃描電鏡都具有內(nèi)置的束閘，通過使用鏡筒掃描線圈來阻斷電子束。雖然該方法適用于某些應(yīng)用，但電子束阻斷速度通常較慢，僅為幾毫秒量級(jí)；如果需要更快的消隱阻斷速度，則應(yīng)安裝單獨(dú)的高速靜電場(chǎng)型束閘。

英國(guó)Deben出品的PCD型束閘是設(shè)計(jì)用來為JEOL和Hitachi的FEG場(chǎng)發(fā)射、LaB6六硼化鑭和鎢燈絲掃描電鏡提供電子束的消隱（阻斷、開關(guān)）、脈沖或其他調(diào)制能力。該束閘安裝在電鏡鏡筒側(cè)面的PCD端口（與最終孔徑光闌相對(duì)）上，可在高達(dá)30千伏的電鏡加速電壓下工作，開關(guān)時(shí)間約為50納秒。還具有一個(gè)集成的法拉第杯和探針電流探測(cè)器（PCD），用于指示探針電流。如果需要更精確的束流讀數(shù)，則可用所提供的BNC連接器連接到可選的探針電流表（見本頁末“五檔束流表”）。

偏轉(zhuǎn)板機(jī)構(gòu)可置入鏡筒的中軸線處，在不需要時(shí)也可*抽出。束閘極板由鈷金鍍層的磷青銅制成，以確保插入極板時(shí)不影響掃描電鏡的正常工作。極板的長(zhǎng)度和間距已被優(yōu)選以確保在1kV到30kV的加速電壓范圍內(nèi)都能獲得的電子束阻斷效率。

整套束閘系統(tǒng)包括一個(gè)PCD端口適配器，并帶有可伸縮的束閘極板組件和集成的脈沖驅(qū)動(dòng)器。含一個(gè)遠(yuǎn)程脈沖驅(qū)動(dòng)輸入和一個(gè)小型桌面控制器?？蛇x的RS-232接口允許直接從計(jì)算機(jī)控制的電子顯微鏡或自動(dòng)電子束光刻系統(tǒng)控制束閘系統(tǒng)。

Deben電子束束閘可用于阻斷SEM電子束（打開和關(guān)閉電子束），此功能主要用于電子束曝光刻寫系統(tǒng)，也用于EDX、CL或EBIC。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

儀器特點(diǎn)：

• 集成的法拉第杯，方便檢測(cè)束流
• 開關(guān)響應(yīng)快，時(shí)間短
• 電動(dòng)插入式極板
• 5V TTL電平控制輸入
• 可選的RS-232遠(yuǎn)程控制
• 兼容電鏡加速電壓30 kV
• 適配于大部分JEOL及Hitachi電鏡

 

推薦應(yīng)用：

• 電子束曝光（EBL）
• 陰極發(fā)光（CL）
• EBIC成像/電壓襯度成像
• EDX
• 掃描電聲顯微鏡

 

 

 

 

 

 

可選的五檔束流表：n

• 自動(dòng)校零
• 25°C時(shí)誤差5pA
• 過載：超過100μA
• 功率：電池4 x AA堿性電池，通常工作10000小時(shí)（1.2年）
• 尺寸：130mm（寬）x 70mm（高）x 115mm（深）

 

注：英國(guó)DEBEN PCD型束閘通常與美國(guó)NPGS納米圖形發(fā)生器、EBIC等設(shè)備配套使用。