日本Advance Riko 超高溫高速退火爐:
。桌面式:HT-RTA59HD
。帶水淬:CAS-59AQ
產(chǎn)品介紹:
HT-RTA59HD 這款桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃,對SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。
應(yīng)用:
• SiC氧化膜的生成和激活;
• 半導(dǎo)體開發(fā)與研究;
• 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理;
• 作為熱處理爐對高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理;
• 陶瓷材料的熱沖擊測試。
特點(diǎn):
。可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃;
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。紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成;
。緊湊的桌面型設(shè)計(jì);
。通過USB與電腦連接,輸入溫度參數(shù);
。在加熱過程中,在電腦屏幕顯示溫度。
帶水淬的型號(hào):CAS-59AQ
設(shè)備參數(shù):
溫度范圍 | 室溫-1800℃ |
樣品尺寸 | W15mm×L15mm×T1mm |
樣品支架 | 氧化鋁或者高純碳 |
加熱氛圍 | 多種 |
熱電偶 | JIS B φ0.3 (W-Re可選) |