制藥網(wǎng)>產(chǎn)品庫(kù)>通用機(jī)械及設(shè)備>其它通用設(shè)備>行業(yè)專用設(shè)備>>電子束光刻膠

電子束光刻膠

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/22 21:03:52
訪問(wèn)次數(shù)581

產(chǎn)品標(biāo)簽:

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品查看電話同類產(chǎn)品

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是制藥網(wǎng) 上看到的信息，謝謝!

索取相關(guān)資料

公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化，為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國(guó)ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

展開顯示更多內(nèi)容

電子顯微鏡

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

E-Beam 電子束光刻膠：HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, EBL6000系列，Ma-N2400系列。納米壓印膠：mr-NIL 6000E, mr-L 900M, mr-UVCur21.光固化膠：Ormo 系列

電子束光刻膠產(chǎn)品信息

電子束光刻膠

詳細(xì)介紹：

類型	光刻膠型號(hào)	適用光譜	厚度范圍/um	分辨率	適用工藝
電子束光刻膠	HSQXR-1541-006	EB	85nm~180nm	6nm	分辨率負(fù)膠，抗刻蝕
	Z520		0.05-1	10-50nm	高分辨率電子束正膠,抗刻蝕
	PMMA		電子束正膠
	EBL 6000系列		0.1-0.5	50nm	負(fù)性電子束光刻膠
	ma-N2400系列		0.1-1.5	30nm	負(fù)性電子束光刻膠
納米壓印膠	mr-NIL 6000E	熱固化和UV固化	0.1-1	50nm	可用于納米圖形的制造、刻蝕、多層系統(tǒng)等
	mr-I 9000M	熱固化	0.1-1	50nm
	mr-UVCur21	UV固化	0.1-5	50nm
光固化膠	Ormo系列	g/h/i-Line	0.1-300	50nm	適用于制造光柵、微型鏡片、光耦合器和連接器等

電子束光刻膠（e-beam resist）

類型	型號(hào)	特性
正膠	SX AR-P 6200 NEW!	超高分辨率電子束正膠，通過(guò)簡(jiǎn)單的工藝即可得到10nm甚至更小的結(jié)構(gòu)。超高深寬比（20:1）、超高對(duì)比度（>15）。良好的耐干法刻蝕性能，是傳統(tǒng)PMMA膠的2倍。 *可以取代ZEP膠，經(jīng)濟(jì)實(shí)惠，并且采購(gòu)簡(jiǎn)單，包裝規(guī)格多樣化。
	AR-P617 PMMA/MA共聚物	適合目前各種應(yīng)用需要的電子束光刻膠。靈敏度高，是普通PMMA膠的3~ 4倍，對(duì)比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通過(guò)雙層工藝實(shí)現(xiàn)lift-off工藝。
	PMMA	PMMA（polymethyl methacrylate）是電子束曝光工藝中的正性光刻膠，是由單體甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate, MMA）經(jīng)聚合反應(yīng)而成。 PMMA膠最主要的特點(diǎn)是高分辨率、高對(duì)比度、低靈敏度。 PMMA膠種類齊全，不同的系列中包含了各種分子量（50K, 200K, 600K, 950K），各種溶劑（氯苯，乳酸乙酯，苯甲醚）以及各種固含量的PMMA膠，以滿足各類電子束光刻的工藝要求。 PMMA膠可用于單層或雙層電子束曝光、轉(zhuǎn)移碳納米管或石墨烯、絕緣層等多種工藝。（注：工廠可根據(jù)用戶的需求，定制所需分子量、固含量的PMMA膠。）
	AR-P 6510	AR-P 6510是在PMMA的基礎(chǔ)上開發(fā)的厚膠。另外，廠商可以根據(jù)客戶的具體需求來(lái)生產(chǎn)其他分子量的LIGA工藝用膠。主要用于LIGA工藝和X-Ray 曝光工藝。此類光刻膠型號(hào)齊全，厚度從10~250μm不等，圖形剖面陡直。
負(fù)膠	AR-N 7520 AR-N 7500	電子束負(fù)膠，高分辨率（30nm），對(duì)比度高（> 5），良好的耐等離子刻蝕性能，可以用于混合曝光。靈敏度中等，介于AR-N 7700和PMMA之間。
	AR-N 7700	電子束負(fù)膠，化學(xué)放大膠，高靈敏度，高對(duì)比度，良好的耐等離子刻蝕刻蝕性能，可以用于混合曝光。
	AR-N 7720	電子束負(fù)膠，用于三維曝光工藝。化學(xué)放大膠，高靈敏度，對(duì)比度非常?。?1），非常適合制作三維結(jié)構(gòu)；也可以用于衍射光學(xué)及全息器件的加工。
	X AR-N 7700/30 SX AR-N 7700/37	化學(xué)放大負(fù)膠，高分辨率，良好的耐等離子刻蝕能力，適合混合曝光。高靈敏度，靈敏度比AR-N 7700更高。

配套試劑
（Process chemicals）

類型	型號(hào)	特性
顯影液	AR 300-26, -35	紫外光刻膠用顯影液
	AR 300-44,-46,-47, -475	紫外/電子束光刻膠用顯影液
	AR 600-50,-51,-55,-56	PMMA膠用顯影液
定影液	AR 600-60,-61	電子束光刻膠用定影液
除膠劑	AR 300-70, -72, -73,600-70	紫外/電子束光刻膠用除膠劑
稀釋劑	AR 600-01…09	PMMA膠稀釋劑
稀釋劑	AR 300-12	紫外/電子束光刻膠用稀釋劑
增附劑	AR 300-80, HMDS	紫外/電子束光刻膠用增附劑