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賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海禹重實(shí)業(yè)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/8/1 16:56:12
  • 訪問次數(shù)622
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 上海禹重實(shí)業(yè)有限公司(以下簡(jiǎn)稱禹重科技®)是一家以服務(wù)introduce中國(guó)市場(chǎng)為主的進(jìn)口儀器貿(mào)易和檢測(cè)技術(shù)服務(wù)公司,下設(shè)三個(gè)事業(yè)部和一個(gè)中心,即分析儀器事業(yè)部、實(shí)驗(yàn)室服務(wù)事業(yè)部、項(xiàng)目開發(fā)部、以及中禹聯(lián)重檢測(cè)技術(shù)中心。目前除上??偛客?,我們已建立北京、沈陽、太原、長(zhǎng)沙、廣州、青島和成都等分支機(jī)構(gòu)。為客戶提供更專業(yè)、更安全、更便捷的產(chǎn)品和服務(wù)是我們禹重科技®的目標(biāo)。

 

禹重科技®作為Thermo Science(賽默飛)、DIONEX(戴安)、Gilson(吉爾森)和Tekmar(泰克瑪)等品牌的核心代理商,依托(香港)亞測(cè)科技有限公司(Amicrotest Technology Limited),我們將分析測(cè)試前沿技術(shù)和產(chǎn)品帶給國(guó)內(nèi)客戶,為眾多企業(yè)和高校、科研院所以及政府機(jī)構(gòu)的產(chǎn)品研發(fā)、質(zhì)量控制、合規(guī)運(yùn)營(yíng),提供成分分析儀器、表面分析儀器、自動(dòng)化樣品前處理儀器和物理力學(xué)儀器等綜合性儀器解決方案,同時(shí)提供儀器配套設(shè)備和標(biāo)準(zhǔn)樣品耗材的銷售,材料測(cè)試等實(shí)驗(yàn)室服務(wù)。

成分分析儀,表面分析儀,光譜儀
賽默飛 Nexsa X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統(tǒng)能提供全自動(dòng)、高通量的多技術(shù)分析,并可保持研究級(jí)結(jié)果的高質(zhì)量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術(shù)集于一身,用戶因此能夠進(jìn)行真正意義上的相關(guān)性分析,從而為微電子、超薄膜、納米技術(shù)開發(fā)以及許多其他應(yīng)用進(jìn)一步取得進(jìn)展釋放潛能。
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS 產(chǎn)品信息

賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統(tǒng)能提供全自動(dòng)、高通量的多技術(shù)分析,并可保持研究級(jí)結(jié)果的高質(zhì)量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術(shù)集于一身,用戶因此能夠進(jìn)行真正意義上的相關(guān)性分析,從而為微電子、超薄膜、納米技術(shù)開發(fā)以及許多其他應(yīng)用進(jìn)一步取得進(jìn)展釋放潛能。
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 具有靈活性,可限度地發(fā)揮材料潛能。在使結(jié)果保持研究級(jí)質(zhì)量水平的同時(shí),以多重整合技術(shù)選項(xiàng)的形式提供靈活性,從而實(shí)現(xiàn)真正意義上的相關(guān)性數(shù)據(jù)分析和高通量。
標(biāo)準(zhǔn)化功能催生強(qiáng)大性能:
絕緣體分析
高性能光譜
深度剖析
多技術(shù)整合
雙模式離子源,使深度剖析功能得到擴(kuò)展
用于 ARXPS 測(cè)量的傾斜模塊
用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告的 Avantage 軟件
小光斑分析
可選的升級(jí):可將任何全自動(dòng)化集成技術(shù)添加到您的分析中。觸動(dòng)按鈕即可運(yùn)行。
ISS:在離子散射光譜技術(shù)中,一束離子可被某物體表面散射
UPS:紫外光電子能譜是指對(duì)吸收了紫外光子的分子所發(fā)射的光電子動(dòng)能譜進(jìn)行測(cè)量,以確定化合價(jià)區(qū)域中的分子軌道能量
拉曼:能譜技術(shù)在化學(xué)領(lǐng)域被用于提供結(jié)構(gòu)指紋
REELS:反射電子能量損失譜
借助 SnapMap 的光學(xué)視圖,聚焦于樣品特征。光學(xué)視圖可以幫助您快速定位感興趣區(qū)域,同時(shí)生成*聚焦的 XPS 圖像,以進(jìn)一步定義您的實(shí)驗(yàn)。
X 射線照射樣品上的一個(gè)小區(qū)域。
收集來自這一小區(qū)域的光電子并將其聚焦于分析儀
隨著鏡臺(tái)的移動(dòng),不斷采集能譜
在整個(gè)數(shù)據(jù)采集過程中監(jiān)測(cè)鏡臺(tái)位置,這些位置用來生成 SnapMap

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