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PHI X-tool 全自動(dòng)掃描型微區(qū)探針能譜儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海禹重實(shí)業(yè)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/8/1 16:59:23
  • 訪問(wèn)次數(shù)338
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 上海禹重實(shí)業(yè)有限公司(以下簡(jiǎn)稱禹重科技®)是一家以服務(wù)introduce中國(guó)市場(chǎng)為主的進(jìn)口儀器貿(mào)易和檢測(cè)技術(shù)服務(wù)公司,下設(shè)三個(gè)事業(yè)部和一個(gè)中心,即分析儀器事業(yè)部、實(shí)驗(yàn)室服務(wù)事業(yè)部、項(xiàng)目開(kāi)發(fā)部、以及中禹聯(lián)重檢測(cè)技術(shù)中心。目前除上??偛客猓覀円呀⒈本?、沈陽(yáng)、太原、長(zhǎng)沙、廣州、青島和成都等分支機(jī)構(gòu)。為客戶提供更專(zhuān)業(yè)、更安全、更便捷的產(chǎn)品和服務(wù)是我們禹重科技®的目標(biāo)。

 

禹重科技®作為T(mén)hermo Science(賽默飛)、DIONEX(戴安)、Gilson(吉爾森)和Tekmar(泰克瑪)等品牌的核心代理商,依托(香港)亞測(cè)科技有限公司(Amicrotest Technology Limited),我們將分析測(cè)試前沿技術(shù)和產(chǎn)品帶給國(guó)內(nèi)客戶,為眾多企業(yè)和高校、科研院所以及政府機(jī)構(gòu)的產(chǎn)品研發(fā)、質(zhì)量控制、合規(guī)運(yùn)營(yíng),提供成分分析儀器、表面分析儀器、自動(dòng)化樣品前處理儀器和物理力學(xué)儀器等綜合性儀器解決方案,同時(shí)提供儀器配套設(shè)備和標(biāo)準(zhǔn)樣品耗材的銷(xiāo)售,材料測(cè)試等實(shí)驗(yàn)室服務(wù)。

成分分析儀,表面分析儀,光譜儀
PHI X-tool 全自動(dòng)掃描型微區(qū)探針能譜儀是一款操作簡(jiǎn)單,同時(shí)具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統(tǒng),可通過(guò)單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。
PHI X-tool 全自動(dòng)掃描型微區(qū)探針能譜儀 產(chǎn)品信息

PHI X-tool 全自動(dòng)掃描型微區(qū)探針能譜儀是一款操作簡(jiǎn)單,同時(shí)具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統(tǒng),可通過(guò)單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統(tǒng)的XPS相比,不采用光闌進(jìn)行選區(qū),極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時(shí),不需要增加磁透鏡,即可得到的靈敏度及優(yōu)秀的信噪比,即使磁性樣品,也可輕松應(yīng)對(duì)。
的操作性
PHI X-tool 全自動(dòng)掃描型微區(qū)探針能譜儀軟件支持直觀的觸摸屏操作,所有XPS測(cè)定過(guò)程都可在觸摸屏上完成。用戶可以自由選擇手動(dòng)操作模式和自動(dòng)操作模式(自動(dòng)定性、定量、分析及完成報(bào)告),操作者無(wú)論是否具有豐富的XPS操作經(jīng)驗(yàn),均能輕松應(yīng)對(duì)。
自動(dòng)參數(shù)設(shè)定、自動(dòng)完成報(bào)告
PHI X-tool具備自動(dòng)對(duì)焦功能(Auto-Z),使分析位置處于X射線的焦平面上,得到的分析條件。其可實(shí)現(xiàn)中和參數(shù)的自動(dòng)匹配,無(wú)論樣品的導(dǎo)電性如何,均可輕松應(yīng)對(duì)。
自動(dòng)定性:實(shí)現(xiàn)譜峰自動(dòng)識(shí)別
自動(dòng)定量:自動(dòng)選定譜峰定量范圍
自動(dòng)曲線擬合:可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)預(yù)定條件的曲線擬合
自動(dòng)生成實(shí)驗(yàn)報(bào)告
多方式樣品觀察
在XPS分析中,樣品觀察,特別是微區(qū)定位至關(guān)重要。PHI X-tool可通過(guò)以下三種方式進(jìn)行樣品觀察:a. 進(jìn)樣室高空間分辨率圖像;b. 實(shí)時(shí)CCD成像;c. 二次電子像(SXI)。利用這幾種方法觀察樣品,不論樣品大小,表面形貌如何均可輕松確定測(cè)試位置。
詳細(xì)的條件設(shè)定和直觀的操作
結(jié)合材料和目的,可詳細(xì)設(shè)定分析的條件。通過(guò)內(nèi)置元素周期表,可設(shè)定各光電子峰和俄歇峰。通過(guò)更改通過(guò)能、步長(zhǎng)、積分時(shí)間設(shè)定窄譜掃描參數(shù)。對(duì)每個(gè)樣品可設(shè)置習(xí)慣的文件名和樣品名稱。
快速化學(xué)成像
采用掃描X射線和高靈敏度檢測(cè)器及非掃描模式,可實(shí)現(xiàn)快速成像分析。每個(gè)點(diǎn)都可以直接調(diào)取全部的譜數(shù)據(jù)。化學(xué)態(tài)成像的空間分辨率、靈敏度、能量分辨率與儀器主指標(biāo)*。
采用PHI的硬件設(shè)計(jì)
微聚焦掃描X-ray源;
雙束中和系統(tǒng),低能離子束及低能電子束自動(dòng)配合;
浮動(dòng)離子槍?zhuān)x子加速電壓條件范圍可達(dá)0~5kV

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