電子行業(yè)超純水設(shè)備由預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))等工藝環(huán)節(jié)構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng),在線監(jiān)測(cè)控制儀表,電器采用PLC可編程控制器。
產(chǎn)水量:根據(jù)客戶實(shí)際用水量來(lái)量身定制
產(chǎn)水水質(zhì):18.25MΩ.cm@25℃
制備工藝:原水--原水加壓泵--超濾--二級(jí)反滲透--中間水箱--中轉(zhuǎn)水泵--EDI裝置--純化水箱--微孔過(guò)濾器--純 水泵--用水
適用范圍:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器材、各種電子器件、微電子工業(yè) 等行業(yè)
1、反滲透設(shè)備出水不合格(包括電導(dǎo)率、硬度、變價(jià)金屬等。)
若原水含鹽量較高,建議采用雙極RO反滲透設(shè)備作為預(yù)脫鹽,電導(dǎo)率為1 ~ 3 s/cm。進(jìn)水CO2含量高,建議使用脫氣膜或脫氣塔脫除CO2。如果酸堿度偏離中性太多,調(diào)節(jié)酸堿度,使電子數(shù)據(jù)交換給水的酸堿度在7和8之間。在與空氣接觸的過(guò)程中,溶解在高純水中的二氧化碳?xì)怏w導(dǎo)致電導(dǎo)率增加。因此,高純水的電導(dǎo)率應(yīng)在在線密封的情況下進(jìn)行測(cè)試。
2.電子數(shù)據(jù)交換系統(tǒng)當(dāng)前控制中存在的問(wèn)題
隨著工作電流的增加,采出水的質(zhì)量越來(lái)越好。但如果電流增大到點(diǎn)后再增大,由于水電離產(chǎn)生過(guò)量的H和OH-離子,除了樹(shù)脂再生外,還有大量剩余離子作為載流離子導(dǎo)電,同時(shí)由于大量載流離子在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中的積累和堵塞,甚至反向擴(kuò)散,產(chǎn)出水的質(zhì)量會(huì)下降。
EDI系統(tǒng)的給水CO2含量高。如果CO2含量大于10ppm,EDI系統(tǒng)無(wú)法制備高純水。
EDI系統(tǒng)運(yùn)行中的鐵污染是產(chǎn)水阻力逐漸下降的主要原因之一。如果原水和預(yù)處理系統(tǒng)使用普通鋼管,不進(jìn)行內(nèi)部防腐處理,系統(tǒng)中鐵的含量會(huì)增加。鐵被腐蝕后,大部分溶解在水中的鐵以Fe(OH)2的形式存在,進(jìn)一步被氧化成Fe(OH)3。Fe(OH)2為膠體物質(zhì),F(xiàn)e(OH)3處于懸浮狀態(tài)。樹(shù)脂對(duì)鐵有很強(qiáng)的親和力,被樹(shù)脂吸附后會(huì)引起不可逆反應(yīng)。在陰離子和陽(yáng)離子,交換水處理中,陰離子和陽(yáng)離子床將被再生或清洗,以除去樹(shù)脂中的大部分鐵。然而,在EDI設(shè)備的運(yùn)行中,如果不進(jìn)行再生和清洗,水中的微量鐵會(huì)附著在陰、陽(yáng)樹(shù)脂和陰、陽(yáng)膜上。鐵具有很強(qiáng)的導(dǎo)電性,在與陽(yáng)離子樹(shù)脂發(fā)生反應(yīng)之前,會(huì)在大電流的作用下,被陰膜附近EDI成分中的水移動(dòng)到陽(yáng)膜。純鐵離子容易穿透,而膠體鐵化合物不易穿透陽(yáng)膜,因此吸附在陽(yáng)膜表面,污染陰、陽(yáng)膜,最終導(dǎo)致EDI組件工作性能下降,產(chǎn)水質(zhì)量變差,電阻值逐漸降低。