一、產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、加工面積大：樣品尺寸：0~?25mm；
2、樣品表面更均勻；
3、加工時樣品表面能量低，特別對于薄膜、高分子樣品（對溫度敏感性高的樣品）損傷小；
4、控制精度高，實(shí)驗(yàn)結(jié)果精準(zhǔn)可控重復(fù)性高；
5、配備專用截面樣品臺；
6、可實(shí)現(xiàn)多種功能：離子減薄、等離子清洗、截面樣品拋光、離子刻蝕、EBSD樣品制備；
7、專用擋板；
8、制備單個樣品可實(shí)現(xiàn)不同能量自動調(diào)整；
9、數(shù)字化自動控制系統(tǒng)。
二、技術(shù)參數(shù)：
1、真空度：極限真空度5*10-3Pa （不通氬氣）；
2、*高壓：（1）200~10000V；
3、樣品臺可旋轉(zhuǎn)；
4、具有自保護(hù)功能；
5、雙離子槍可獨(dú)立控制;
6、樣品冷卻：半導(dǎo)體冷卻（ 選配件）;
7、支持手套箱。
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