本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。鍍膜時(shí)，可根據(jù)需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。還可根據(jù)客戶需要配置可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、加熱型樣品臺(tái)、多功能樣品臺(tái)，整機(jī)性價(jià)比高，是制作各種金屬（或非金屬）薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空系統(tǒng)。
技術(shù)參數(shù)
1、輸入電源：220VAC 50/60Hz
2、濺射電流：0-150 mA可調(diào)
3、整機(jī)功率：＜2KW
4、輸出電壓：≦上限值1600VDC
5、濺射腔體：采用石英腔體，尺寸：166mm OD x 150mm ID x 290mm H
6、真空密封：采用O形密封圈密封
7、磁控靶：2英寸帶水冷的磁控濺射頭，也可根據(jù)需要選配1英寸磁控靶
8、樣品臺(tái)：直徑50mm不銹鋼樣品臺(tái)，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速率0-5 RPM ，并設(shè)計(jì)有手動(dòng)操作的濺射擋板，樣品臺(tái)和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍：30-80mm
9、配有靶頭支架，可以在非濺射狀態(tài)時(shí)放置濺射靶頭
10、濺射面積：4英寸
11、真空系統(tǒng)：安裝有KF25真空接口，數(shù)字真空壓力表（Pa），此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含），可根據(jù)客戶具體需要選配各種真空泵，按實(shí)際供貨計(jì)費(fèi)。
12、進(jìn)氣：含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥本設(shè)備接氣需要安裝減壓閥（可在我公司選購(gòu)減壓閥）
13、靶材尺寸要求：Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度)，適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金屬（可在我公司選購(gòu)）對(duì)于濺射各種金屬靶材，需要摸索*理想的濺射參數(shù)，下表是本公司實(shí)驗(yàn)所設(shè)置的參數(shù)
靶材種類 | 真空度（Pa） | 濺射電流（mA） | 時(shí)間（s） | 濺射次數(shù) |
Au | 31-33 | 28-30 | 100 | 1 |
Ag | 31 | 28 | 100 | 1 |
14、有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度，需要多次濺射鍍膜。在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前用超聲波清洗基材表面。
15、基材清洗方式
（1）丙酮超聲清洗→異丙醇超聲清洗去除油脂→吹氮?dú)飧稍铩婵蘸嫦涑ニ?/p>
（2）等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力此濺射鍍膜機(jī)可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射。
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