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三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CY-MSP300S-2DC1RF
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/2/16 9:10:27
  • 訪問次數(shù)279
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊(duì)”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國(guó)內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國(guó)內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國(guó)訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國(guó)家,并在國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界*。 如果您正在被國(guó)貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國(guó)貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡(jiǎn)單介紹: 三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹:
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。三個(gè)3英寸磁控靶,一支是強(qiáng)磁靶,2支永磁靶;所配電源為2個(gè)500W直流電源和1個(gè)300W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,三個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì),客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配*的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購(gòu)。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。

磁控濺射鍍膜儀

三靶磁控鍍膜儀應(yīng)用范圍:

該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

三靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

三靶磁控濺射儀---靶槍下置(英文操作界面)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSP300S-2DC1RF

濺射電源

安裝有2個(gè)直流,一個(gè)射頻

直流(DC)電源:500W  射頻: 300W

真空腔體

真空腔體:450 mm Dia x 450 mm h,采用不銹鋼制作觀察窗口:  100 mm diameter

磁控濺射頭

儀器中安裝有3個(gè)3英寸磁控濺射靶槍(其中的一支是強(qiáng)磁靶,2支永磁靶),而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對(duì)靶材降溫

載樣臺(tái)

載樣臺(tái)尺寸:150mm dia.(載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào))

載樣臺(tái)*高可加熱溫度為750℃,控溫精度為+/- 1.0 °C

氣體流量控制器

儀器內(nèi)部安裝有1個(gè)質(zhì)量流量計(jì)

量程為:0-200sccm (氬氣)

氣體流量設(shè)置可以在15.6寸屏智能控制系統(tǒng)

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作600L/S

真空計(jì)

英孚康皮拉尼真空計(jì)MPG400

測(cè)量范圍: 5 x 10-9 mbar ---大氣壓

薄膜測(cè)厚儀

石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 ? 

電壓

220V 50HZ

備注

1.33寸濺射靶(其中的一支是強(qiáng)磁靶,2支永磁靶)

2.1路流量計(jì)

3.不銹鋼真空腔體

4.分子泵組

5.膜厚檢測(cè)儀

6.2臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源

7.水冷機(jī)組

8.帶旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)

9.15.6寸屏智能控制系統(tǒng)

10.空氣壓縮機(jī)

11.電控氣動(dòng)閘板閥

12.電控氣動(dòng)切斷閥

13.電控氣動(dòng)旁抽閥

14. 英孚康真空計(jì) MPG 400 測(cè)量范圍


 
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