德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī)IoN Wave 10E等離子去膠機(jī)
IoN Wave 10E等離子去膠機(jī)是我們?cè)谖⒉ǖ入x子處理工藝中的產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適中、性能*,特別適用于工廠(chǎng)、科研院所等領(lǐng)域。
IoN Wave 10E使用的、性能出色的組件和軟件,可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。
IoN Wave 10E占地面積很小,安裝和維護(hù)簡(jiǎn)單。依靠微波等離子技術(shù),該設(shè)備在提供*的光刻膠灰化速度的同時(shí),的降低了產(chǎn)品暴露在靜電放電(ESD)中。
*的功能性:
。臺(tái)式設(shè)計(jì),占地面積小
。石英腔室可容納8寸的晶圓,最多同時(shí)裝載25片6寸晶圓
。使用Windows操作系統(tǒng)的工業(yè)計(jì)算機(jī)控制
。符合Semi E95-1101要求的圖形用戶(hù)界面(GUI)
。軟件提供了不同的用戶(hù)訪(fǎng)問(wèn)權(quán)限:操作員、工藝編寫(xiě)、維護(hù)
。通過(guò)以太網(wǎng)進(jìn)行遠(yuǎn)程工藝監(jiān)測(cè)
。機(jī)載診斷功能和報(bào)警記錄
。工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能
。液晶觸摸屏(LCD)操作面板
?;谠诰€(xiàn)網(wǎng)絡(luò)的模擬、培訓(xùn)和支持程序
。安裝簡(jiǎn)單快捷
典型應(yīng)用
。 去除光刻膠
。 晶圓打膠
。濕法刻蝕前的晶圓清潔
。去除SU-8
。 刻蝕鈍化層
。失效分析中的器件開(kāi)封
。 清潔和表面活化
?;瘜W(xué)微量分析中的低溫材料灰化
。 過(guò)濾器和濾膜的清潔
規(guī)格參數(shù)
工作腔室
材質(zhì) : 石英
尺寸 :248mm直徑 x 397 mm長(zhǎng)
腔門(mén)處直徑 : 241mm
容積 :19.2 升
工藝氣體控制 :最多至6路氣體,MFC控制
基礎(chǔ)壓力 :0.07 mbar (50 mTorr)
工藝壓力 : 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)
抽真空時(shí)間 :大約1分鐘
微波發(fā)生器
頻率: 2.45 GHz
輸出功率 :1200W
供給需求
電源 :220V,50 Hz,單相
工藝氣體 :輸入壓力1-2 Bar
壓縮空氣 : 4-6 Bar,流速 56 升/分鐘 (間歇式)
吹掃氣體 : 1.3-2.7 Bar,流速 28 升/分鐘 (間歇式)
尺寸 寬/高/深 : 775 x 749 x 781 mm
重量 135 千克
可選配置
。 推拉門(mén)
。 石英舟支撐桿
。溫控板
。 1%精度的真空規(guī)
。 壓力控制器
。指示燈柱
。 條形碼閱讀器
。 工藝氣體切換器
。 光譜終點(diǎn)檢測(cè)器
。 法拉第桶(次級(jí)等離子體)
。陶瓷腔室,耐化學(xué)腐蝕密封圈
。 打印機(jī)
。 油泵或干泵