官方微信|手機(jī)版|本站服務(wù)|買(mǎi)家中心|行業(yè)動(dòng)態(tài)|幫助

產(chǎn)品|公司|采購(gòu)|招標(biāo)

IoN Wave 10E 德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/19 20:44:46
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)554
產(chǎn)品標(biāo)簽:

在線(xiàn)詢(xún)價(jià) 收藏產(chǎn)品 查看電話(huà) 同類(lèi)產(chǎn)品

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是 制藥網(wǎng) 上看到的信息,謝謝!

深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶(hù)特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠(chǎng)家高性?xún)r(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶(hù)提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶(hù)群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶(hù)需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性?xún)r(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶(hù)提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
IoN Wave 10E 德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī), 使用的、性能出色的組件和軟件,可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。
IoN Wave 10E 德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品信息

德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī)IoN Wave 10E等離子去膠機(jī)

IoN Wave 10E等離子去膠機(jī)是我們?cè)谖⒉ǖ入x子處理工藝中的產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適中、性能*,特別適用于工廠(chǎng)、科研院所等領(lǐng)域。

IoN Wave 10E使用的、性能出色的組件和軟件,可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

IoN Wave 10E占地面積很小,安裝和維護(hù)簡(jiǎn)單。依靠微波等離子技術(shù),該設(shè)備在提供*的光刻膠灰化速度的同時(shí),的降低了產(chǎn)品暴露在靜電放電(ESD)中。

*的功能性:

。臺(tái)式設(shè)計(jì),占地面積小

。石英腔室可容納8寸的晶圓,最多同時(shí)裝載25片6寸晶圓

。使用Windows操作系統(tǒng)的工業(yè)計(jì)算機(jī)控制

。符合Semi E95-1101要求的圖形用戶(hù)界面(GUI)

。軟件提供了不同的用戶(hù)訪(fǎng)問(wèn)權(quán)限:操作員、工藝編寫(xiě)、維護(hù)

。通過(guò)以太網(wǎng)進(jìn)行遠(yuǎn)程工藝監(jiān)測(cè)

。機(jī)載診斷功能和報(bào)警記錄

。工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能

。液晶觸摸屏(LCD)操作面板

?;谠诰€(xiàn)網(wǎng)絡(luò)的模擬、培訓(xùn)和支持程序

。安裝簡(jiǎn)單快捷

典型應(yīng)用

。 去除光刻膠

。 晶圓打膠

。濕法刻蝕前的晶圓清潔

。去除SU-8

。 刻蝕鈍化層

。失效分析中的器件開(kāi)封

。 清潔和表面活化

?;瘜W(xué)微量分析中的低溫材料灰化

。 過(guò)濾器和濾膜的清潔

規(guī)格參數(shù)

工作腔室

材質(zhì) : 石英

尺寸 :248mm直徑 x 397 mm長(zhǎng)

腔門(mén)處直徑 : 241mm

容積 :19.2 升

工藝氣體控制 :最多至6路氣體,MFC控制

基礎(chǔ)壓力 :0.07 mbar (50 mTorr)

工藝壓力 : 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)

抽真空時(shí)間 :大約1分鐘

微波發(fā)生器

頻率: 2.45 GHz

輸出功率 :1200W

供給需求

電源 :220V,50 Hz,單相

工藝氣體 :輸入壓力1-2 Bar

壓縮空氣 : 4-6 Bar,流速 56 升/分鐘 (間歇式)

吹掃氣體 : 1.3-2.7 Bar,流速 28 升/分鐘 (間歇式)

尺寸 寬/高/深 : 775 x 749 x 781 mm

重量 135 千克

可選配置

。 推拉門(mén)

。 石英舟支撐桿

。溫控板

。 1%精度的真空規(guī)

。 壓力控制器

。指示燈柱

。 條形碼閱讀器

。 工藝氣體切換器

。 光譜終點(diǎn)檢測(cè)器

。 法拉第桶(次級(jí)等離子體)

。陶瓷腔室,耐化學(xué)腐蝕密封圈

。 打印機(jī)

。 油泵或干泵

在找 IoN Wave 10E 德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品的人還在看

提示

×

*您想獲取產(chǎn)品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個(gè)人信息: