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PlasmaPen 德國(guó) PVA TePla 常壓等離子清洗機(jī)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/19 20:50:35
  • 訪問次數(shù)603
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
德國(guó) PVA TePla 等離子清洗機(jī)PlasmaPen 常壓等離子, 通過清潔和活化材料表面來改善灌封化合物、粘合劑、油墨、涂料和染料等的浸潤(rùn)性,PlasmaPen清潔后的表面保證了半導(dǎo)體封裝工藝中打線和芯片鍵合的可靠性。它已經(jīng)成功地應(yīng)用于平板顯示制造業(yè)中提高異方性導(dǎo)電膠膜(ACF)的粘合性。
PlasmaPen 德國(guó) PVA TePla 常壓等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

德國(guó) PVA TePla 等離子清洗機(jī)
型號(hào):PlasmaPen 常壓等離子

PlasmaPen™ 通過清潔和活化材料表面來改善灌封化合物、粘合劑、油墨、涂料和染料等的浸潤(rùn)性。PlasmaPen™清潔后的表面保證了半導(dǎo)體封裝工藝中打線和芯片鍵合的可靠性。它已經(jīng)成功地應(yīng)用于平板顯示制造業(yè)中提高異方性導(dǎo)電膠膜(ACF)的粘合性。

PlasmaPen™的設(shè)計(jì)使電壓和電流安全地遠(yuǎn)離等離子噴嘴。這意味著用戶不會(huì)遭受潛在的電壓危害,物體表面也不會(huì)受到絲狀放電的損壞。

通過自動(dòng)化主機(jī)可以手動(dòng)或遙控操作PlasmaPen™。它非常適合于原位處理從而實(shí)現(xiàn)快速的在線工藝,消除了所有活化后的時(shí)效問題。工藝氣體流過筆體,在噴嘴處被活化并噴出。PVA TePla的設(shè)計(jì)使用壓縮空氣作為大多數(shù)應(yīng)用的標(biāo)準(zhǔn)處理氣體并保證了極低的用戶成本。特殊的應(yīng)用也可以使用其它氣體。

優(yōu)點(diǎn)

● 與電暈放電相比具有更高的等離子密度

● 在等離子噴嘴內(nèi)沒有電流或絲狀放電

● 處理多種材料的應(yīng)用能力

● 低熱負(fù)荷可以處理低熔點(diǎn)的聚合物

● 簡(jiǎn)單的自動(dòng)化主機(jī)集成

● 低環(huán)境影響(無需化學(xué)品、輔助電極或真空)

● 機(jī)載系統(tǒng)監(jiān)測(cè)和診斷

應(yīng)用

● 提高粘合性:

- 異方性導(dǎo)電膠膜(ACF)-平板顯示裝配

- 光伏硅電池片制造

- 光伏薄膜模塊組裝

- 聚合物粘接

- 油墨、染料和涂料

- 灌封、外膜和底部填充物

- 生物材料

● 關(guān)鍵性清潔:

- 打線盤和芯片鍵合盤

- 光纖電纜

- 焊接線

- 封裝、封蓋

- 連接器

- 光學(xué)器件

技術(shù)參數(shù)

束斑處理寬度 :3 - 10 mm(選配)

標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)管長(zhǎng)度 :3 m - 6 m

供給需求

電源: 220 V/50 Hz,單相,(4安培)

壓縮空氣 :干燥清潔的空氣(6 Bar, 88 psi),1275 升/小時(shí)

其它可用氣體 :N2,N 2/H2,O 2,C O2,He

重量 :25 千克

關(guān)鍵詞:清洗機(jī)
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