本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體,前開門式設(shè)計(jì),門上配有石英觀察窗,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。頂蓋上裝有一套擋板,可通過轉(zhuǎn)動(dòng)擋板切換兩支靶,實(shí)現(xiàn)多層鍍膜。
本設(shè)備需要配合高真空分子泵組一起使用,用戶可以選擇進(jìn)口品牌小型分子泵以進(jìn)一步節(jié)省安裝面積。
同時(shí)該型號(hào)可選配膜厚儀組件,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜厚數(shù)據(jù),為實(shí)驗(yàn)工藝提供可靠參數(shù)。
雙靶磁控鍍膜儀參數(shù):
樣品臺(tái) | 尺寸 | 100mm | 加熱溫度 | ≤500℃ |
旋轉(zhuǎn)速度 | 1-20r/min | 控溫精度 | ±1℃ | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2英寸 x2 | 冷卻方式 | 水冷 |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ210mm X 260mm | 觀察窗口 | φ40mm |
腔體材料 | 不銹鋼 | 開啟方式 | 前開門式 | |
電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1臺(tái) | 輸出功率 | ≤300W |
輸出電壓 | ≤600V | 響應(yīng)時(shí)間 | <5ms | |
水冷系統(tǒng) | 水箱容積 | 9L | 流量 | 10L/min |
膜厚儀 | 測(cè)量精度 | 0.1埃米 | 冷卻方式 | 水冷 |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機(jī)功率 | 4kw |
分子泵組 | 前級(jí)泵 | 旋片泵 | 抽速 | 1.1L/s |
次級(jí)泵 | 渦輪分子泵(國(guó)產(chǎn)) | 抽速 | 600L/s | |
抽氣口 | KF40 | 出氣口 | KF16 |