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雙靶直流磁控濺射鍍膜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CY-MSP300S-2DC
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/2/16 9:06:02
  • 訪問次數(shù)210
產(chǎn)品標簽:

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學儀器有限公司的“研發(fā)團隊”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學儀器有限公司 近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。
壓片機
簡單介紹: 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為兩個500W直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

雙靶直流磁控濺射鍍膜儀

鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標配*的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進一步提高您的實驗效率。

雙靶直流磁控濺射鍍膜儀適用范圍:

雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

雙靶磁控濺射儀

濺射電源

安裝有兩個直流電源 直流(DC)電源:500W

真空腔體

真空腔體:300 mm Dia x 300 mm h,采用不銹鋼制作 觀察窗口: 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

磁控濺射頭

儀器中安裝有 2 個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水 對靶材降溫

兩個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材

載樣臺

載樣臺尺寸:140mm dia.(*大可放置 4"的基底) 載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào)) 載樣臺*高可加熱溫度為 500℃,控溫精度為+/- 1.0 °C

氣體流量控制器

儀器內(nèi)部安裝有 2 個質(zhì)量流量計 量程為:0-200sccm

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S

水冷系統(tǒng)

16L/min.

電壓

220V 50HZ


 
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