雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為兩個500W直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀適用范圍:
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 雙靶磁控濺射儀 |
濺射電源 | 安裝有兩個直流電源 直流(DC)電源:500W |
真空腔體 | 真空腔體:300 mm Dia x 300 mm h,采用不銹鋼制作 觀察窗口: 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易 |
磁控濺射頭 | 儀器中安裝有 2 個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水 對靶材降溫 兩個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材 |
載樣臺 | 載樣臺尺寸:140mm dia.(*大可放置 4"的基底) 載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào)) 載樣臺*高可加熱溫度為 500℃,控溫精度為+/- 1.0 °C |
氣體流量控制器 | 儀器內(nèi)部安裝有 2 個質(zhì)量流量計 量程為:0-200sccm |
真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S |
水冷系統(tǒng) | 16L/min. |
電壓 | 220V 50HZ |