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SI 500 D 等離子沉積機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/13 20:38:18
  • 訪問(wèn)次數(shù)198
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
SI 500D 代表了等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介電薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等離子體源,反應(yīng)氣體分離氣體入口,動(dòng)態(tài)控溫基片電極,全控真空系統(tǒng),采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的*森泰克控制軟件,以及一個(gè)非常友好的通用用戶界面來(lái)操作SI 500D。
SI 500 D 等離子沉積機(jī) 產(chǎn)品信息

德國(guó) Sentech SI 500 D 等離子沉積機(jī):


超高密度等離子體

SI 500D具有特殊的等離子體特性,如高密度、低離子能量和介質(zhì)膜的低壓沉積。

平面等離子體源

森泰克的平面三螺旋天線(PTSA)等離子體源允許高效率低功率耦合。

杰出的沉積特性

低腐蝕速率、高擊穿電壓、低應(yīng)力、基體無(wú)損傷、界面狀態(tài)密度極低,沉積溫度小于100℃,使沉積薄膜具有優(yōu)異的性能。

動(dòng)態(tài)溫度控制

采用動(dòng)態(tài)溫度控制的基片電極,結(jié)合He背面冷卻和基片背面溫度傳感,在室溫至+350℃的大范圍溫度范圍內(nèi),提供優(yōu)良的穩(wěn)定工藝條件。

SI 500d代表了等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介電薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等離子體源,反應(yīng)氣體分離氣體入口,動(dòng)態(tài)控溫基片電極,全控真空系統(tǒng),采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的*森泰克控制軟件,以及一個(gè)非常友好的通用用戶界面來(lái)操作SI 500D。

從直徑200毫米的晶圓片到負(fù)載在載體上的各種基板,都可以在SI 500 d中進(jìn)行加工。

SI 500D等離子體增強(qiáng)沉積工具可在室溫至350℃范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- SI薄膜。溶液可用來(lái)沉積TEOS、SiC和其他具有液體或氣體前驅(qū)體的材料。s500d特別適用于有機(jī)材料在低溫下沉積高效的保護(hù)屏障,以及在規(guī)定溫度下無(wú)損傷沉積鈍化膜。

森泰科提供不同的自動(dòng)化水平,從真空盒式磁帶加載到一個(gè)過(guò)程室,多達(dá)六個(gè)端口集群,具有不同的沉積和蝕刻模塊,目標(biāo)是高靈活性或高吞吐量。SI 500d也可以作為集群配置上的進(jìn)程模塊。

SI 500 D

ICPECVD等離子體沉積工具

與真空l(shuí)oadlock

高達(dá)200毫米晶圓

襯底溫度從RT到350℃

激光端點(diǎn)檢測(cè)

可選的襯底偏置

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