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PlasmaPro 100 ALE牛津原子層刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2021/7/14 9:28:10
  • 訪問次數(shù)370
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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深圳市藍星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準(zhǔn)分子清洗機,等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機,電子束光刻機, 激光直寫光刻機,紫外光刻機,微納3D打印機,德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機,微波離子沉積機MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機,電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
牛津原子層刻蝕機PlasmaPro 100 ALE,它具有足夠的靈活性,可用于研究和開發(fā),通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
PlasmaPro 100 ALE牛津原子層刻蝕機 產(chǎn)品信息

牛津原子層刻蝕機 PlasmaPro 100 ALE

As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices there is a need for ever more precise process control to create and manipulate these layers. The PlasmaPro 100 ALE delivers this through specialised hardware including:

· Precise control of gas dose

· Excellent repeatability of low power RF delivery

· Rapid switching enabled by fast PLC

All these combine to enable etching with accuracy at the atomic scale.概述:

我們的設(shè)備和工藝已通過充分驗證,正常運轉(zhuǎn)時間可達90%以上,一旦設(shè)備安裝完畢,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市場應(yīng)用廣,包括但不限于: MEMS和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性,可用于研究和開發(fā),通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。

PlasmaPro 100 ALE 的特點:

· 準(zhǔn)確的刻蝕深度控制;

· 光滑的刻蝕表面

· 低損傷工藝

· 數(shù)字化/循環(huán)式刻蝕工藝——刻蝕相當(dāng)于ALD

· 高選擇比

· 能加工200mm的晶圓

· 高深寬比(HAR)刻蝕工藝

· 非常適于刻蝕納米級薄層

應(yīng)用:

· III-V族材料刻蝕工藝

· 固體激光器InP刻蝕

· VCSEL GaAs/AlGaAs刻蝕

· 射頻器件低損傷GaN刻蝕

· 硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝

· 類金剛石(DLC)沉積

· 二氧化硅和石英刻蝕

· 用特殊配置的PlasmaPro FA設(shè)備進行失效分析的干法刻蝕解剖逆工藝,可處理封裝好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圓

· 高質(zhì)量PECVD沉積的氮化硅和二氧化硅,用于光子學(xué)、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途

· 用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕

關(guān)鍵詞:傳感器
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