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PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2021/7/14 9:26:59
  • 訪問次數(shù)439
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng),平臺旨在提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、 *封裝以及納米技術(shù)市場的各種工藝要求??紤]到研究和生產(chǎn)的市場發(fā)展,PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)

PlasmaPro 100 Estrelas 平臺旨在提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、 *封裝以及納米技術(shù)市場的各種工藝要求。考慮到研究和生產(chǎn)的市場發(fā)展,PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。

。光滑側(cè)壁工藝
。高刻蝕速率腔刻蝕
。高深寬比工藝
。錐形通孔刻蝕
。廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域
。機(jī)械或靜電壓盤
。加熱內(nèi)襯
。改善重復(fù)性
。延長了兩次清洗間的平均時間間隔(MTBC)

概述:

PlasmaPro 100 Estrelas平臺旨在確保覆蓋MEMS,*封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用,從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實(shí)現(xiàn)。

特征:

硬件設(shè)計(jì)使同一腔室中可進(jìn)行Bosch™和超低溫刻蝕工藝,使得納米和微米結(jié)構(gòu)刻蝕均可實(shí)現(xiàn)。

兼容50mm至200mm的襯底 - 確保您只需一臺系統(tǒng),便具備從研發(fā)器件到量產(chǎn)的能力

自動匹配 - 擁有工藝靈活性

更高流量的質(zhì)量流量計(jì)以及等離子發(fā)生器 - 自由基密度更高

減小的腔體尺寸和高效率的泵 - 確保氣體高速流通

快速近距離耦合質(zhì)量流量計(jì) - 快速控制(初始為ALD而開發(fā))

應(yīng)用:

· 硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝

· 二氧化硅和石英刻蝕

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