電子束蒸發(fā)鍍膜機

電子束蒸發(fā)鍍膜機

型號：HVC-800DA
廠家：韓國Hanil真空
技術(shù)指標:
 （1）可沉積各種金屬材料包括難熔金屬、絕緣材料的高純度、高質(zhì)量薄膜樣品. 
 （2）具有高真空(< 2×10^-7 Torr ), 低腔溫（<90^oC），適合Lift-Off制程要求.
 （3）可裝載標準的2’’和4’’的晶片和不規(guī)則大小的樣品，樣品的均勻性 <3%. 
 （4）設(shè)置6個坩鍋，可以完成不同金屬薄膜的多層沉積.
 （5）配有膜厚儀實時對膜厚進行檢測，實現(xiàn)對薄膜的厚度的精確控制。
主要功能及應(yīng)用范圍：
   主要用于光學(xué)膜、電學(xué)膜以及半導(dǎo)體領(lǐng)域的高質(zhì)量薄膜的沉積。