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離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)

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公司名稱南京盈波光電科技有限公司
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型號(hào)
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廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/28 12:34:07
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南京盈波光電科技有限公司依托國(guó)內(nèi)科研院所技術(shù)，致力于高品質(zhì)的光電儀器研發(fā)，并提供以客戶為導(dǎo)向的光學(xué)儀器和解決方案。創(chuàng)始人劉教授入選南京321人才計(jì)劃。公司主營(yíng)全元素快速檢測(cè)分析儀、光譜儀、激光器、光學(xué)機(jī)械，以及各類光電系統(tǒng)和軟件的訂制服務(wù)。在此基礎(chǔ)上還可以服務(wù)于基礎(chǔ)教學(xué)，訂制教學(xué)儀器系統(tǒng)。

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離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)

離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD) 產(chǎn)品信息

離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)

型號(hào)：NRE-4000
廠家：美國(guó)Nanomaster公司
技術(shù)指標(biāo):
氣路：N₂O, SiH₄, NH₃, CH₄, O₂, Ar, N₂
清洗氣路: CF₄/O₂混合氣體
樣品尺寸：8英寸table,可沉積6英寸基片
控溫范圍：室溫至400℃

沉積材料：氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等
主要功能及應(yīng)用范圍：
PECVD系統(tǒng)可以借助微波或射頻源使含有薄膜組成原子的氣體在局部形成等離子體，利用等離子體的強(qiáng)化學(xué)活性發(fā)生反應(yīng)，從而在基片上沉積出所期的薄膜，具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)?？沙练e氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等材料，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)沉積厚度的精確控制，還可以通過(guò)改變反應(yīng)氣體組分在一定范圍內(nèi)調(diào)節(jié)沉積薄膜的折射率，可應(yīng)用于微/納結(jié)構(gòu)中的抗腐蝕層、微納電子器件中的絕緣層、薄膜太陽(yáng)能電池等。