納米壓印系統(tǒng)
型號(hào):MicroTec
廠家:德國(guó)Karl Suss
技術(shù)指標(biāo):
壓印精度:30nm
重復(fù)性:±10nm(pitch)
±15nm(depth)
晶圓尺寸:2”, 4’’
模具尺寸:6’’
脫模方式:真空順序脫模
主要功能及應(yīng)用范圍: 采用氣體軟壓技術(shù),壓印均一性與一致性良好。典型使用領(lǐng)域:光子晶體、亞波長(zhǎng)光學(xué)器件、OLED、生物微溝道、有機(jī)薄膜晶體管、漸變折射率層等。